从65nm到45nm，改变的不只是制程

　　今年是晶体管诞生60周年，1947年12月16日，贝尔实验室 (Bell Labs)的William Shockley、John Bardeen和Walter Brattain成功制作第一个晶体管，从此改变了人类的历史。

　　经过了60年的发展，芯片制造工艺取得了突飞猛进的进步。1965年推出的10微米（μm）处理器，而后就一路经历了6微米、3微米、1微米、0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.13微米、0.09微米、0.065微米。而在Intel与AMD之间的工艺制程竞赛中，Intel一直站在领先的地位。

　　在理论上来看，越来越高的工艺制程可以提高芯片的集成度，增加晶体管的数量，扩展新的功能。同时随着晶体管尺寸的缩小，每颗晶体管的单位成本也有所降低。高性能，低功耗，以及低成本就是先进工艺制程为我们所带来的好处。

　　从目前来看，Intel已经全面转入了65nm阵营，AMD也从今年开始，逐步转入65nm阵营，但是就整整比Intel落后了一年的时间。而Penryn处理器的发布，更是将工艺制程推进到了全新的45nm水平上。得益于45nm工艺制程的帮助，Penryn拥有4.1亿个晶体管（四核心则达到8.2亿个晶体管），比65nm双核心Conroe多出近1.2亿个，而芯片尺寸也会缩减到110平方毫米。而更高的工艺水平，可以令CPU达到更高的频率以及更低的功耗水平。

　　与65纳米工艺相比，45纳米制造工艺绝对不是简单的将连线宽度减少了20纳米，45纳米制造工艺可以在不增减芯片体积的前提下，在相同体积内集成多将近一倍的晶体管，使芯片的功能得到跨越。